LUMILEAD SiO

成膜時のスプラッシュ発生数評価

測定条件
測定装置 微粒子可視化システム
計測時の成膜レート 3 Å/sec
計測時間 10秒
※蒸着開始60秒から70秒まで(両材料のレート・EB出力が安定したところ)
測定結果
スプラッシュ発生数 以下の図に記載

図. 発生したスプラッシュの積算合成画像

SURFCLEAR100/他社比較データ 耐連続磨耗性能
LUMILEAD SiO

SURFCLEAR100/他社比較データ 耐連続磨耗性能
通常のSiO

図.スプラッシュ発生数の比較
SURFCLEAR100/他社比較データ 耐連続磨耗性能